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關鍵詞:RIE、RIBE、反應離子束刻蝕、CAIEB、化學輔助離子束刻蝕、過渡金屬、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型號:MU7...
我公司能夠提供下列服務:電子束曝光:制備光刻膠圖像作為掩膜,最小可以制備線寬為7nm的圖像
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